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    <title>DSpace コミュニティ:</title>
    <link>http://hdl.handle.net/2261/130</link>
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    <pubDate>Mon, 20 May 2013 06:44:11 GMT</pubDate>
    <dc:date>2013-05-20T06:44:11Z</dc:date>
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      <title>Combinatorial masked deposition: Simple method to control deposition flux and its spatial distribution.</title>
      <link>http://hdl.handle.net/2261/16</link>
      <description>タイトル: Combinatorial masked deposition: Simple method to control deposition flux and its spatial distribution.
著者: Noda, Suguru; Kajikawa, Yuya; Komiyama, Hiroshi
抄録: Deposition flux is an important factor that determines the structures of vapor-deposited materials. However, controlling this flux over a wide range is difficult using only a single apparatus. In this work, we developed a simple method, called combinatorial masked deposition (CMD), that enables a series of deposition fluxes and their respective distribution to be realized on a single sample by just setting a mask with holes of different sizes above a substrate. The degree of reduction in deposition flux can be controlled by the hole size and distance between the given point and the hole. The characteristics and applicability of CMD were evaluated by two experiments. In the first experiment, Cu nanoparticles were formed by sputter-deposition on a-SiO2 at different Cu deposition fluxes. The nanoparticles had a higher number density and smaller size when deposited at 0.80 nm/s for 2.5 s than when deposited at 0.014 nm/s for 140 s. In the second experiment, metal-induced crystallization of amorphous Si (a-Si) was done with spatially distributed Ni additives. The CMD method can realize a series of Ni flux distributions and was successfully used to form 100 different profiles of Ni concentration on a single sample, thus enabling efficient screening of concentration profiles to enhance grain size. © 2003 Elsevier B.V. All rights reserved.</description>
      <pubDate>Tue, 30 Mar 2004 00:00:00 GMT</pubDate>
      <guid isPermaLink="false">http://hdl.handle.net/2261/16</guid>
      <dc:date>2004-03-30T00:00:00Z</dc:date>
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      <title>東京大学経済学部図書館所蔵『山一證券資料』のマイクロ化と公開について</title>
      <link>http://hdl.handle.net/2261/53460</link>
      <description>タイトル: 東京大学経済学部図書館所蔵『山一證券資料』のマイクロ化と公開について
著者: 矢野, 正隆
抄録: 東京大学経済学部図書館に所蔵される企業資料群の由来を辿ると、法科大学時代、大正2(1913)年に設置された商業資料文庫に遡る。以来、数多のコレクションが収集整理され、これらは当館蔵書の重要な一角を占めている。このたび、この企業資料群の中でも一二の規模を誇る『山一證券資料』が、本学部、伊藤正直教授の監修のもと、マイクロフィルムとして公開されることになった。隠蔽体質が命取りとなった山一證券の、平成9年11月の自主廃業から10年という節目の年に、こうした形で内部資料を公開するというのも、何かの縁であろう。以下、ごく簡単ではあるが、当館に資料が寄贈された経緯と、マイクロフィルムの内容を紹介する。</description>
      <pubDate>Fri, 01 Feb 2008 00:00:00 GMT</pubDate>
      <guid isPermaLink="false">http://hdl.handle.net/2261/53460</guid>
      <dc:date>2008-02-01T00:00:00Z</dc:date>
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      <title>「古貨幣・古札画像データベース試行版」公開の意義と課題</title>
      <link>http://hdl.handle.net/2261/53459</link>
      <description>タイトル: 「古貨幣・古札画像データベース試行版」公開の意義と課題
著者: 小島, 浩之</description>
      <pubDate>Tue, 01 Jan 2008 00:00:00 GMT</pubDate>
      <guid isPermaLink="false">http://hdl.handle.net/2261/53459</guid>
      <dc:date>2008-01-01T00:00:00Z</dc:date>
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      <title>東京大学経済学部における資料保存対策事業の成果とその意義</title>
      <link>http://hdl.handle.net/2261/53458</link>
      <description>タイトル: 東京大学経済学部における資料保存対策事業の成果とその意義
著者: 小島, 浩之</description>
      <pubDate>Thu, 01 Jun 2006 00:00:00 GMT</pubDate>
      <guid isPermaLink="false">http://hdl.handle.net/2261/53458</guid>
      <dc:date>2006-06-01T00:00:00Z</dc:date>
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