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Please use this identifier to cite or link to this item: http://hdl.handle.net/2261/1874

タイトル: Studies of High Quality InP Layers Heteroepitaxially Grown on Si Substrates by Epitaxial Lateral Overgrowth
その他のタイトル: 横方向成長によるSi基板上のInPヘテロエピタキシーに関する研究
著者: Naritsuka, Shigeya
著者(別言語): 成塚, 重弥
キーワード: 集積回路
Issue Date: 29-Mar-1996
内容記述: 報告番号: 甲11825 ; 学位授与年月日: 1996-03-29 ; 学位の種別: 課程博士 ; 学位の種類: 博士(工学) ; 学位記番号: 博工第3623号 ; 研究科・専攻: 工学系研究科電子工学専攻
URI: 
http://hdl.handle.net/2261/1874
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1132220 博士論文(電子工学専攻)

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