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タイトル: Structural and morphological control of nanosized Cu islands on SiO2 using a Ti underlayer.
著者: Hu, Minghui
Noda, Suguru
Okubo, Tatsuya
Yamaguchi, Yukio
Komiyama, Hiroshi
著者(別言語): 野田, 優
大久保, 達也
山口, 由岐夫
小宮山, 宏
キーワード: copper
Nanostructured materials
Silica
Wetting
Crystal orientation
Transmission electron microscopy
Morphological control
発行日: 2003年9月1日
出版者: American Institute of Physics
掲載誌情報: Journal of Applied Physics, 94 (5). pp. 3492-3497
抄録: The structure and morphology of nanosized Cu islands grown by sputter deposition on clean SiO2 substrates and Ti-underlayered SiO2 substrates are investigated using transmission electron microscopy. On SiO2, spherical Cu islands with a random crystalline orientation are formed, whereas on Ti/SiO2, semispherical islands with a preferred <111> crystalline orientation are formed. Moreover, the Cu islands on Ti/SiO2 have smaller sizes, shorter interisland distances, and a higher number density than those on SiO2. These structural and morphological changes at the nanoscale are discussed from the viewpoint of interfacial interactions. Our study suggests that by using an appropriate metal underlayer, it is possible to fabricate nanosized islands with the desired wettability, crystalline orientation, as well as morphology of island ensembles.
URI: http://hdl.handle.net/2261/21
ISSN: 00218979
出現カテゴリ:1133810 学術雑誌論文
014 自然科学

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