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タイトル: PLD法による金属基板上への窒化物半導体薄膜の成長
著者: 井上, 茂
著者(別言語): いのうえ, しげる
発行日: 2005年
出版者: 東京大学大学院工学系研究科
内容記述: 指導教員: 藤岡, 洋
URI: http://hdl.handle.net/2261/3851
出現カテゴリ:1133645 COE報告書
045 COE報告書

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