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タイトル: 特集4 : 研究解説 : リアクティブスパッタリング法によるセラミックス系薄膜の合成
その他のタイトル: Preparation of Ceramic Thin Films by Reactive Sputtering
著者: 宇都野, 太
安井, 至
著者(別言語): UTSUNO, Futoshi
YASUI, Itaru
発行日: 1993年12月1日
出版者: 東京大学生産技術研究所
掲載誌情報: 生産研究. 45(12), 1993.12.1, pp. 828-835
抄録: リアクティブスパッタリング法とは,スパッタリング中にターゲット元素と反応性ガスを反応させながら化合物薄膜を形成する方法である.当研究室では,この方法を用いて溶融法では作成不可能な組成系のガラス薄膜の合成を試みている.本稿では,リアクティブスパッタリング法によるセラミックス系材料の合成と,MoSi2ターゲットを用いて酸素雰囲気中でのリアクティブスパッタリング法によるMo-Si-O薄膜の合成と,スパッタリングにおける化合物ターゲットと金属ターゲットの関係について述べる.
内容記述: 小特集 先端素材開発研究センター
URI: http://hdl.handle.net/2261/49838
ISSN: 0037105X
出現カテゴリ:生産研究
生産研究

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