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タイトル: シリコンCVDプロセスにおける製膜前駆体に関する研究
著者: 中村, 誠吾
著者(別言語): なかむら, せいご
発行日: 2006年
出版者: 東京大学大学院工学系研究科
掲載誌情報: 東京大学21世紀COEプログラム 化学を基盤とするヒューマンマテリアル創成 リサーチアシスタント平成18年度報告書
内容記述: 指導教員;越, 光男
URI: http://hdl.handle.net/2261/7703
出現カテゴリ:1133845 COE報告書
045 COE報告書

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