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Permalink : http://doi.org/10.11501/3114934

Molecular Mechanism of Heat Tolerance of Photosynthesis 利用統計を見る

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JaLC DOI	info:doi/10.11501/3114934
アイテムタイプ	学位論文 / Thesis or Dissertation
言語	英語
その他のタイトル	光合成の高温耐性の分子機構
著者	Nishiyama Yoshitaka
著者別名	西山佳孝
著者所属	東京大学大学院工学系研究科化学生命工学専攻
発行年	1994-05-19
学位名	博士(工学)
学位	doctoral
学位分野	Engineering(工学)
学位授与機関	University of Tokyo (東京大学)
研究科・専攻	Department of Chemistry and Biotechnology, Graduate School of Engineering(工学系研究科化学生命工学専攻)
学位授与年月日	1994-05-19
学位授与番号	甲第10752号
学位記番号	博工第3238号

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