WEKO3
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極短ゲートMOS電界効果トランジスタ用ゲート酸化膜と超薄膜SOI構造の研究
https://doi.org/10.15083/00002204
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名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
---|---|---|
108567.pdf (14.8 MB)
|
|
Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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公開日 | 2012-03-01 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | 極短ゲートMOS電界効果トランジスタ用ゲート酸化膜と超薄膜SOI構造の研究 | |||||
言語 | ||||||
言語 | jpn | |||||
キーワード | ||||||
主題 | 集積回路 | |||||
主題Scheme | Other | |||||
資源タイプ | ||||||
資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
タイプ | thesis | |||||
ID登録 | ||||||
ID登録 | 10.15083/00002204 | |||||
ID登録タイプ | JaLC | |||||
著者 |
三木, 浩史
× 三木, 浩史 |
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著者別名 | ||||||
識別子 | 6322 | |||||
識別子Scheme | WEKO | |||||
姓名 | Miki, Hiroshi | |||||
著者所属 | ||||||
著者所属 | 東京大学大学院工学系研究科 電子工学専攻 | |||||
書誌情報 | 発行日 1990-03-29 | |||||
フォーマット | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | application/pdf | |||||
日本十進分類法 | ||||||
主題 | 549.7 | |||||
主題Scheme | NDC | |||||
学位名 | ||||||
学位名 | 工学博士 | |||||
学位 | ||||||
値 | doctoral | |||||
学位分野 | ||||||
Engineering (工学) | ||||||
学位授与機関 | ||||||
学位授与機関名 | University of Tokyo (東京大学) | |||||
研究科・専攻 | ||||||
Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering (工学系研究科電子工学専攻) | ||||||
学位授与年月日 | ||||||
学位授与年月日 | 1990-03-29 | |||||
学位授与番号 | ||||||
学位授与番号 | 甲第8567号 | |||||
学位記番号 | ||||||
博工第2510号 |