2024-03-29T14:50:10Z
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/oai
oai:repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp:00001390
2022-12-19T03:42:40Z
110:111:243
9:233:234
二段階成長マイクロチャンネルエピタキシーによるSi基板上のIII-V-OI(III-V on insulator) 構造の作製
Fabrication of III-V-OI (III-V on insulator) structures on Si substrates by two step micro -channel epitaxy
七条, 真人
2007-03-22
jpn
thesis
http://hdl.handle.net/2261/20191
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/records/1390
修士(科学)
2007-03-22
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/1390/files/K-01129-a.pdf
application/pdf
57.1 kB
2017-05-31