2024-03-29T12:39:51Z
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/oai
oai:repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp:00005359
2022-12-19T03:46:57Z
6:418:419
9:233:280
表面活性化法によるシリコンウェハの常温接合
高木, 秀樹
1999-09-30
jpn
thesis
https://doi.org/10.11501/3189942
http://hdl.handle.net/2261/54743
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/records/5359
10.11501/3189942
甲第14778
博士(工学)
1999-09-30
University of Tokyo (東京大学)
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/5359/files/411905.pdf
application/pdf
12.9 MB
2017-06-01