2024-03-28T21:32:42Z
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/oai
oai:repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp:00006068
2022-12-19T03:47:28Z
110:212:333
9:233:280
分子線エピタキシー法による立方晶Ⅲ族窒化物半導体薄膜の作製と評価
角田, 雅弘
2013-03-25
jpn
thesis
http://hdl.handle.net/2261/56897
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/records/6068
博士(科学)
2013-03-25
University of Tokyo (東京大学)
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/6068/files/K-04083-a.pdf
application/pdf
416.4 kB
2017-06-01