2024-03-29T15:50:37Z
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/oai
oai:repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp:00018753
2022-12-19T03:57:30Z
171:1108:1296:1297
9:504:1111:1298:1299
特集4 : 研究解説 : リアクティブスパッタリング法によるセラミックス系薄膜の合成
Preparation of Ceramic Thin Films by Reactive Sputtering
宇都野, 太
安井, 至
549
小特集 先端素材開発研究センター
東京大学生産技術研究所
1993-12-01
jpn
departmental bulletin paper
http://hdl.handle.net/2261/49838
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/records/18753
AN00127075
0037105X
生産研究
45
12
828
835
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/18753/files/sk045012004.pdf
application/pdf
757.8 kB
2017-06-08