2024-03-28T16:04:02Z
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/oai
oai:repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp:00004743
2022-12-19T03:46:21Z
6:291:292
9:233:280
分子線エピタキシ-法により作製したSi系ヘテロ構造の分光学的研究
Spectroscopic study of Si-based semiconductor heterostructures grown by molecular beam epitaxy
Usami, Noritaka
10406
University of Tokyo (東京大学)
博士(工学)
thesis
1998-01-29
1998-01-29
application/pdf
乙第13671号
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/4743/files/343798.pdf
eng