2024-03-28T09:08:05Z
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/oai
oai:repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp:00047833
2022-12-19T04:21:29Z
6:149:422
9:233:280
反応性フラックスを用いたシリコン中ホウ素の揮発除去に関する物理化学
Physical chemistry on evaporation removal of boron in molten siliconusing reactive fluxes
王, 燁
143241
University of Tokyo(東京大学)
博士(工学)
学位の種別: 課程博士
審査委員会委員 : (主査)東京大学教授 森田 一樹, 東京大学教授 月橋 文孝, 東京大学教授 岡部 徹, 東京大学准教授 吉川 健, 東京大学教授 宮山 勝
thesis
2015-09-14
2015-09-14
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12601甲第32057号
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/47833/files/A32057.pdf
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/47833/files/A32057_abstract.pdf
https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/47833/files/A32057_review.pdf
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