@misc{oai:repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp:00047927,
 author = {李, 秀妍},
 month = {Sep},
 note = {学位の種別: 課程博士, 審査委員会委員 : （主査）東京大学教授 鳥海 明, 東京大学教授 山口 周, 東京大学准教授 溝口 照康, 東京大学准教授 喜多 浩之, 東北大学教授 丹羽 正昭},
 title = {Kinetic study of interfacial SiO2 scavenging in HfO2 gate stack on Si substrate},
 year = {2015}
}