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アイテム / Study of dopant-induced ferroelectric phase evolution in thin HfO2 films / A34302_abstract
A34302_abstract
ファイル | ライセンス |
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A34302_abstract.pdf (105.3 kB) sha256 d02008a9806b2b0fb29b13fa2700c6803e535c8b275cdb6130e60948c3f9abbc |
公開日 | 2019-09-19 | |||||
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ファイル名 | A34302_abstract.pdf | |||||
本文URL | https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/52487/files/A34302_abstract.pdf | |||||
ラベル | A34302_abstract.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 105.3 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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