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アイテム / Study of dopant-induced ferroelectric phase evolution in thin HfO2 films / A34302_review
A34302_review
ファイル | ライセンス |
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A34302_review.pdf (183.1 kB) sha256 2d24c2b160bdf2268f731c6e1da79881b37037d4ea7c443adf5e0afc5e86abf4 |
公開日 | 2019-09-19 | |||||
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ファイル名 | A34302_review.pdf | |||||
本文URL | https://repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp/record/52487/files/A34302_review.pdf | |||||
ラベル | A34302_review.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 183.1 kB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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