@misc{oai:repository.dl.itc.u-tokyo.ac.jp:00052643,
 author = {宋, 宇振},
 month = {Jan},
 note = {学位の種別: 課程博士, 審査委員会委員 : （主査）東京大学教授 鳥海 明, 東京大学教授 森田 一樹, 東京大学教授 高木 信一, 東京大学准教授 喜多 浩之, 東京大学教授 石川 靖彦},
 title = {Thermal oxidation kinetics of SiGe layer epitaxially grown on Si substrate},
 year = {2018}
}