WEKO3
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特集4 : 新カウフアン型イオン源の応用
http://hdl.handle.net/2261/37625
http://hdl.handle.net/2261/376256c4e7f44-65ba-4d17-bd74-3109948791be
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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sk032011004.pdf (254.7 kB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2010-10-28 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 特集4 : 新カウフアン型イオン源の応用 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | New Kaufman Ion Sources for Ion Beam Deposition and Ion Etching Applications | |||||
| 著者 |
阿部, 幸男
× 阿部, 幸男× 増沢, 隆久 |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 41500 | |||||
| 姓名 | Abe, Akio | |||||
| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 41501 | |||||
| 姓名 | Masuzawa, Takahisa | |||||
| 著者所属 | ||||||
| 著者所属 | 東京大学生産技術研究所第2部 精密工作学 | |||||
| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | 最近、イオンビームデポジションという薄膜作製技術用に高イオン電流密度のイオン源が開発された。このイオン源は従来のカウフマン型イオン源のスクリーングリッドと加速グリッドの部分を設計変更して、イオンビームをフォーカスすることができるように改良したものである･この新しいイオン源をイオンエッチングという特殊加工に応用した場合の可能性について解説する。 | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 特集：生産・加工システムの最適化 | |||||
| 書誌情報 |
生産研究 巻 32, 号 11, p. 526-529, 発行日 1980-11-01 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 0037105X | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AN00127075 | |||||
| 日本十進分類法 | ||||||
| 主題Scheme | NDC | |||||
| 主題 | 530 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 東京大学生産技術研究所 | |||||
| 出版者別名 | ||||||
| Institute of Industrial Science, the University of Tokyo | ||||||
