WEKO3
アイテム
Analysis of Reactive Sputtering Deposition Process of TiO_2 Films
https://doi.org/10.11501/3095977
https://doi.org/10.11501/30959775b8cd51d-b912-45bd-a4ba-f8dc70552190
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
274040.pdf (9.9 MB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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| 公開日 | 2012-03-01 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Analysis of Reactive Sputtering Deposition Process of TiO_2 Films | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
| タイプ | thesis | |||||
| ID登録 | ||||||
| ID登録 | 10.11501/3095977 | |||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | 反応性スパッタリングによるTiO_2形成プロセスの解析 | |||||
| 著者 |
Kusano, Eiji
× Kusano, Eiji |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 7548 | |||||
| 姓名 | 草野, 英二 | |||||
| 著者所属 | ||||||
| 著者所属 | 工学系研究科物理工学専攻 | |||||
| 書誌情報 | 発行日 1993-03-18 | |||||
| 学位名 | ||||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||
| 学位 | ||||||
| 値 | doctoral | |||||
| 学位分野 | ||||||
| Engineering (工学) | ||||||
| 学位授与機関 | ||||||
| 学位授与機関名 | University of Tokyo (東京大学) | |||||
| 研究科・専攻 | ||||||
| Department of Applied Physics, Graduate School of Engineering (工学系研究科物理工学専攻) | ||||||
| 学位授与年月日 | ||||||
| 学位授与年月日 | 1993-03-18 | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 学位授与番号 | 乙第11190号 | |||||
| 学位記番号 | ||||||
| 第11190号 | ||||||
