WEKO3
アイテム
表面活性化法によるシリコンウェハの常温接合
https://doi.org/10.11501/3189942
https://doi.org/10.11501/31899420905f5b8-c112-4872-85f9-7a856bce0eae
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
411905.pdf (12.9 MB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2013-05-17 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 表面活性化法によるシリコンウェハの常温接合 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
| タイプ | thesis | |||||
| ID登録 | ||||||
| ID登録 | 10.11501/3189942 | |||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||
| 著者 |
高木, 秀樹
× 高木, 秀樹 |
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| 著者所属 | ||||||
| 著者所属 | 東京大学大学院工学系研究科先端学際工学専攻 | |||||
| 書誌情報 | 発行日 1999-09-30 | |||||
| 学位名 | ||||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||
| 学位 | ||||||
| 値 | doctoral | |||||
| 学位分野 | ||||||
| Engineering(工学) | ||||||
| 学位授与機関 | ||||||
| 学位授与機関名 | University of Tokyo (東京大学) | |||||
| 研究科・専攻 | ||||||
| Department of Advanced Interdisciplinary Studies, Graduate School of Engineering(工学系研究科先端学際工学専攻) | ||||||
| 学位授与年月日 | ||||||
| 学位授与年月日 | 1999-09-30 | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 学位授与番号 | 甲第14778 | |||||
| 学位記番号 | ||||||
| 博工第4548号 | ||||||
