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  2. 16610 学術雑誌論文
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  2. 10 学術雑誌論文
  3. 015 技術・工学

ION-SENSITIVE FIELD-EFFECT TRANSISTORS WITH INORGANIC GATE OXIDE FOR PH SENSING

http://hdl.handle.net/2261/53
http://hdl.handle.net/2261/53
28245b06-1532-467b-9bf5-eddac9fe13eb
名前 / ファイル ライセンス アクション
IEEE_E_D_1982_29_12.pdf IEEE_E_D_1982_29_12.pdf (548.7 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2015-02-04
タイトル
タイトル ION-SENSITIVE FIELD-EFFECT TRANSISTORS WITH INORGANIC GATE OXIDE FOR PH SENSING
言語
言語 eng
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
タイプ journal article
著者 Akiyama, Tatsuo

× Akiyama, Tatsuo

WEKO 2171

Akiyama, Tatsuo

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Ujihiar, Yusuke

× Ujihiar, Yusuke

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Ujihiar, Yusuke

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Okabe, Yoichi

× Okabe, Yoichi

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Okabe, Yoichi

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Sugano, Takuo

× Sugano, Takuo

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Sugano, Takuo

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Niki, Eiji

× Niki, Eiji

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Niki, Eiji

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著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 2176
姓名 岡部, 洋一
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Ion-sensitive fieldeffect transistors (ISFET’s) have been fabricated by using silicon fiims on sapphire substrates (SOS). Using this structure Si02, Zr02, and TazO5 films are examined as hydrogenion- sensitive materials, and TazO5 fiim has been found to have the highest pH sensitivity (56 mV/pH) among them. The measured pH sensitivity of this SOS-ISFET’s is compared with the theoretical sensitivity based on the site-binding model of proton dimciation reaction on the metal oxide f i i and good agreement between them is obtained.
書誌情報 IEEE transactions on electron devices

巻 29, 号 12, p. 1936-1941, 発行日 1982-05
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 00189383
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00667820
権利
権利情報 ©1982 IEEE. Personal use of this material is permitted. However, permission to reprint/republish this material for advertising or promotional purposes or for creating new collective works for resale or redistribution to servers or lists, or to reuse any copyrighted component of this work in other works must be obtained from the IEEE.
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 549.6
出版者
出版者 IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC
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Ver.1 2021-03-02 08:47:03.043960
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