WEKO3
アイテム
Studies of High Quality InP Layers Heteroepitaxially Grown on Si Substrates by Epitaxial Lateral Overgrowth
https://doi.org/10.11501/3127363
https://doi.org/10.11501/312736362ee55e4-2c60-4000-870e-7a7564aa75e7
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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111825.pdf (20.4 MB)
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Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
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公開日 | 2017-01-13 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Studies of High Quality InP Layers Heteroepitaxially Grown on Si Substrates by Epitaxial Lateral Overgrowth | |||||
言語 | ||||||
言語 | eng | |||||
キーワード | ||||||
主題 | 集積回路 | |||||
主題Scheme | Other | |||||
資源タイプ | ||||||
資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
タイプ | thesis | |||||
ID登録 | ||||||
ID登録 | 10.11501/3127363 | |||||
ID登録タイプ | JaLC | |||||
その他のタイトル | ||||||
その他のタイトル | 横方向成長によるSi基板上のInPヘテロエピタキシーに関する研究 | |||||
著者 |
Naritsuka, Shigeya
× Naritsuka, Shigeya |
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著者別名 | ||||||
識別子 | 17768 | |||||
識別子Scheme | WEKO | |||||
姓名 | 成塚, 重弥 | |||||
著者所属 | ||||||
著者所属 | 東京大学大学院工学系研究科 電子工学専攻 | |||||
書誌情報 | 発行日 1996-03-29 | |||||
日本十進分類法 | ||||||
主題 | 549.7 | |||||
主題Scheme | NDC | |||||
学位名 | ||||||
学位名 | 博士(工学) | |||||
学位 | ||||||
値 | doctoral | |||||
学位分野 | ||||||
Engineering (工学) | ||||||
学位授与機関 | ||||||
学位授与機関名 | University of Tokyo (東京大学) | |||||
研究科・専攻 | ||||||
Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering (工学系研究科電子工学専攻) | ||||||
学位授与年月日 | ||||||
学位授与年月日 | 1996-03-29 | |||||
学位授与番号 | ||||||
学位授与番号 | 甲第11825号 | |||||
学位記番号 | ||||||
博工第3623号 |