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  3. 1133810 学術雑誌論文
  1. 0 資料タイプ別
  2. 10 学術雑誌論文
  3. 014 自然科学

Structure and morphology of self-assembled 3-mercaptopropyltrimethoxysilane layers on silicon oxide

http://hdl.handle.net/2261/22
http://hdl.handle.net/2261/22
abb6dace-78b8-43eb-abf9-3e2a4427e09c
名前 / ファイル ライセンス アクション
2001ASS_hu.pdf 2001ASS_hu.pdf (496.8 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2006-02-06
タイトル
タイトル Structure and morphology of self-assembled 3-mercaptopropyltrimethoxysilane layers on silicon oxide
言語
言語 eng
キーワード
主題Scheme Other
主題 Silica
キーワード
主題Scheme Other
主題 Silicon oxide
キーワード
主題Scheme Other
主題 Self assembly
キーワード
主題Scheme Other
主題 Morphology
キーワード
主題Scheme Other
主題 Surface treatment
キーワード
主題Scheme Other
主題 Silanes
キーワード
主題Scheme Other
主題 Monolayers
キーワード
主題Scheme Other
主題 Dehydration
キーワード
主題Scheme Other
主題 Polymerization
キーワード
主題Scheme Other
主題 Concentration
キーワード
主題Scheme Other
主題 X ray photoelectron spectroscopy
キーワード
主題Scheme Other
主題 Scanning electron microscopy
キーワード
主題Scheme Other
主題 Atomic force microscopy
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
タイプ journal article
著者 Hu, Minghui

× Hu, Minghui

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Hu, Minghui

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Noda, Suguru

× Noda, Suguru

WEKO 57

Noda, Suguru

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Okubo, Tatsuya

× Okubo, Tatsuya

WEKO 58

Okubo, Tatsuya

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Yamaguchi, Yukio

× Yamaguchi, Yukio

WEKO 59

Yamaguchi, Yukio

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Komiyama, Hiroshi

× Komiyama, Hiroshi

WEKO 60

Komiyama, Hiroshi

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著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 61
姓名 野田, 優
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 62
姓名 大久保, 達也
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 63
姓名 山口, 由岐夫
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 64
姓名 小宮山, 宏
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Self-assembled 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (MPTMS, (CH3O)3SiCH2CH2CH2 SH) layers on hydroxyl-terminated silicon oxide (SiO2) were prepared at MPTMS concentrations ranging from 5 × 10-3 to 4 × 10-2M. The surface structure and morphology of MPTMS layers were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), contact angle measurements, scanning electron microscopy (SEM), and atomic force microscopy (AFM). We found that the MPTMS layers on SiO2 consisted of dispersed domains 20-200nm in diameter, instead of continuous, flat monolayers. With increasing MPTMS concentration, the domain shape changed from flat to steep. Flat domains were composed of well-ordered monolayers with thiol headgroups uniformly distributed on the uppermost surface, whereas steep domains were composed of disordered polymers with randomly distributed thiol headgroups on the uppermost surface. These results indicate that MPTMS molecules show good self-assembly at an MPTMS concentration of 5 × 10-3M, but not above this concentration. The effect of MPTMS concentration on the structure and morphology of MPTMS layers might be due to the competition between self-polymerization and surface dehydration reactions, which depends on the trace quantity of water in the solvent and on the SiO2 surface. Our research further indicates that MPTMS and water concentrations are the controlling parameters for preparing well-ordered, self-assembled MPTMS monolayers on SiO2.
書誌情報 Applied surface science : a journal devoted to the properties of interfaces in relation to the synthesis and behaviour of materials

巻 181, 号 3-4, p. 307-316, 発行日 2001-09-21
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 01694332
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA10503400
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 431.1
出版者
出版者 Elsevier
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Ver.1 2021-03-02 08:39:14.587362
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