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  1. 122 新領域創成科学研究科
  2. 99 論文博士
  3. 科学
  1. 0 資料タイプ別
  2. 20 学位論文
  3. 021 博士論文

4H-SiC MOSFETの反転層における電子移動度評価とキャリア散乱機構モデルの研究

https://doi.org/10.15083/0002012391
https://doi.org/10.15083/0002012391
a2406832-b54a-4122-ac58-288f5a3dbda0
名前 / ファイル ライセンス アクション
B18854.pdf B18854.pdf (10.6MB)
B18854_abstract.pdf B18854_abstract.pdf (574.3KB)
B18854_review.pdf B18854_review.pdf (193.8KB)
Item type 学位論文 / Thesis or Dissertation(1)
公開日 2023-06-07
タイトル
タイトル 4H-SiC MOSFETの反転層における電子移動度評価とキャリア散乱機構モデルの研究
言語 ja
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_db06
タイプ doctoral thesis
ID登録
ID登録 10.15083/0002012391
ID登録タイプ JaLC
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 野口, 宗隆

× 野口, 宗隆

ja 野口, 宗隆

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内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 学位の種別:論文博士|審査委員会委員 : (主査)東京大学教授 喜多 浩之, 東京大学教授 寺嶋 和夫, 東京大学教授 竹谷 純一, 東京大学教授 高木 信一, 東京大学准教授 加藤 和明, 筑波大学准教授 矢野 裕司
言語 ja
bibliographic_information
学位名
言語 ja
学位名 博士(科学)
学位授与機関
学位授与機関識別子Scheme kakenhi
学位授与機関識別子 12601
言語 ja
学位授与機関名 東京大学
言語 en
学位授与機関名 The University of Tokyo
item_7_text_24
Department of Advanced Materials Science, Graduate School of Frontier Sciences(新領域創成科学研究科物質系専攻)
学位授与年月日
学位授与年月日 2023-06-07
dissertation_number
学位授与番号 乙第18854号
item_7_text_27
ja
乙第18854号
出版タイプ
出版タイプ VoR
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Ver.1 2025-03-28 06:20:26.327514
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