WEKO3
アイテム
Negative-Capacitance FETs based on Ferroelectric Hafnium Oxide for Low-Power VLSIs
https://doi.org/10.15083/00078055
https://doi.org/10.15083/00078055305c8735-9d8c-4896-b45f-9d157337b198
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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A34757.pdf (17.7 MB)
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A34757_abstract.pdf (178.1 kB)
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A34757_review.pdf (126.5 kB)
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| Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2019-09-19 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Negative-Capacitance FETs based on Ferroelectric Hafnium Oxide for Low-Power VLSIs | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
| タイプ | thesis | |||||
| ID登録 | ||||||
| ID登録 | 10.15083/00078055 | |||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | 低消費電力VLSIのための強誘電性ハフニウム酸化膜を用いた負性容量FETに関する研究 | |||||
| 著者 |
蒋, 京珉
× 蒋, 京珉 |
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| 著者別名 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 157639 | |||||
| 姓名 | JANG, KYUNGMIN | |||||
| 著者所属 | ||||||
| 著者所属 | 工学系研究科電気系工学専攻 | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 学位の種別: 課程博士 | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 審査委員会委員 : （主査）東京大学教授 平本 俊郎, 東京大学教授 桜井 貴康, 東京大学教授 高木 信一, 東京大学准教授 竹中 充, 東京大学准教授 小林 正治, 東京大学准教授 喜多 浩之 | |||||
| 書誌情報 | 発行日 2018-03-22 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 値 | ETD | |||||
| 学位名 | ||||||
| 学位名 | 博士(工学) | |||||
| 学位 | ||||||
| 値 | doctoral | |||||
| 学位授与機関 | ||||||
| 学位授与機関名 | University of Tokyo(東京大学) | |||||
| 研究科・専攻 | ||||||
| Department of Electrical Engineering and Information Systems, Graduate School of Engineering (工学系研究科電気系工学専攻) | ||||||
| 学位授与年月日 | ||||||
| 学位授与年月日 | 2018-03-22 | |||||
| 学位授与番号 | ||||||
| 学位授与番号 | 12601甲第34757号 | |||||
| 学位記番号 | ||||||
| 博工第9281号 | ||||||
