WEKO3
アイテム
Process development of Hot-Wire-assisted ALD dedicated to High Quality Ni/Ru Thin Films for Microelectronic Devices
https://doi.org/10.15083/00007806
https://doi.org/10.15083/000078061b6ec1a7-bbd7-4447-a173-6820e56856a9
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
---|---|---|
![]() |
|
|
![]() |
|
|
![]() |
|
Item type | 学位論文 / Thesis or Dissertation(1) | |||||
---|---|---|---|---|---|---|
公開日 | 2016-08-01 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Process development of Hot-Wire-assisted ALD dedicated to High Quality Ni/Ru Thin Films for Microelectronic Devices | |||||
言語 | ||||||
言語 | eng | |||||
資源タイプ | ||||||
資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_46ec | |||||
タイプ | thesis | |||||
ID登録 | ||||||
ID登録 | 10.15083/00007806 | |||||
ID登録タイプ | JaLC | |||||
その他のタイトル | ||||||
その他のタイトル | 微細電子デバイス用高品質Ni/Ru薄膜形成を目指したホットワイヤーALDプロセスの開発 | |||||
著者 |
袁, 光杰
× 袁, 光杰 |
|||||
著者別名 | ||||||
識別子 | 140634 | |||||
識別子Scheme | WEKO | |||||
姓名 | Yuan, Guangjie | |||||
著者所属 | ||||||
著者所属 | 工学系研究科マテリアル工学専攻 | |||||
内容記述 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 学位の種別: 課程博士 | |||||
内容記述 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 審査委員会委員 : (主査)東京大学教授 霜垣 幸浩, 東京大学教授 寺嶋 和夫, 東京大学教授 光田 好孝, 東京大学准教授 長汐 晃輔, 東京大学准教授 杉山 正和 | |||||
書誌情報 | 発行日 2014-09-26 | |||||
著者版フラグ | ||||||
値 | none | |||||
学位名 | ||||||
学位名 | 博士(工学) | |||||
学位 | ||||||
値 | doctoral | |||||
学位授与機関 | ||||||
学位授与機関名 | University of Tokyo(東京大学) | |||||
研究科・専攻 | ||||||
Department of Materials Engineering, Graduate School of Engineering (工学系研究科マテリアル工学専攻) | ||||||
学位授与年月日 | ||||||
学位授与年月日 | 2014-09-26 | |||||
学位授与番号 | ||||||
学位授与番号 | 12601甲第31041号 | |||||
学位記番号 | ||||||
博工第8431号 |