WEKO3
アイテム
Fabrication of SiO2/4H-SiC (0001) interface with nearly ideal capacitance-voltage characteristics by thermal oxidation
http://hdl.handle.net/2261/56073
http://hdl.handle.net/2261/560739c1047ef-7b84-46d5-b9a1-0205fdb75c32
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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1.4891166.pdf (469.2 kB)
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| Item type | 学術雑誌論文 / Journal Article(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2015-02-04 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Fabrication of SiO2/4H-SiC (0001) interface with nearly ideal capacitance-voltage characteristics by thermal oxidation | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| タイプ | journal article | |||||
| 著者 |
Kikuchi, Richard Heihachiro
× Kikuchi, Richard Heihachiro× Kita, Koji |
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| 著者所属 | ||||||
| 著者所属 | Department of Materials Engineering, The University of Tokyo | |||||
| 著者所属 | ||||||
| 著者所属 | JST-PRESTO, Japan Science and Technology Agency (JST) | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | UTokyo Research掲載「次世代パワーデバイスの理想性能に近づく絶縁膜材料作製手法を開発」 URI: http://www.u-tokyo.ac.jp/ja/utokyo-research/research-news/advanced-dielectric-film-growth-technique-for-next-generation-power-devices/ | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | UTokyo Research "Advanced dielectric film growth technique for next generation power devices" URI: http://www.u-tokyo.ac.jp/en/utokyo-research/research-news/advanced-dielectric-film-growth-technique-for-next-generation-power-devices/ | |||||
| bibliographic_information |
Applied Physics Letters 巻 105, p. 032106, 発行日 2014-07-25 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 0003-6951 | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 1077-3118 | |||||
| item_2_relation_11 | ||||||
| 識別子タイプ | DOI | |||||
| 関連識別子 | info:doi/10.1063/1.4891166 | |||||
| 権利 | ||||||
| 権利情報 | (c) 2014 AIP Publishing LLC | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | AIP Publishing LLC | |||||
| 関係URI | ||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | http://www.u-tokyo.ac.jp/ja/utokyo-research/research-news/advanced-dielectric-film-growth-technique-for-next-generation-power-devices/ | |||||
| 関係URI | ||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | http://www.u-tokyo.ac.jp/en/utokyo-research/research-news/advanced-dielectric-film-growth-technique-for-next-generation-power-devices/ | |||||
| 関係URI | ||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | http://scitation.aip.org/content/aip/journal/apl/105/3/10.1063/1.4891166 | |||||
